一、基础原理：电容式物位测量的延伸

电容式物位计的局限性

传统电容式物位计通过测量探头与容器壁（或参考电）之间的电容变化来检测物位。当介质覆盖探头时，电容值会随介质介电常数（ε）和覆盖面积变化。但该方法存在两大缺陷：

导电介质干扰：若介质导电（如水、酸液），电流会通过介质直接导通探头与容器壁，导致电容值趋近于零，测量失效。

粘附性介质误报：介质粘附在探头上时，会形成虚假电容层，即使实际物位未变化，也会触发错误信号。

射频导纳的改进

射频导纳物位计通过引入高频交流信号（通常1-10MHz）和四端测量技术，将测量对象从单纯的电容扩展为复数导纳（Y=G+jB），其中：

G（电导）：反映介质导电性，与介质电导率（σ）相关。

B（电纳）：反映介质介电性，与介质介电常数（ε）相关。

通过同时分析G和B的变化，可区分真实物位变化与导电/粘附干扰。

二、测量过程：动态导纳分析

信号激励与接收

探头结构：通常采用单探头（同轴式）或双探头（对地式）设计。单探头由电和外部屏蔽层组成，双探头则包含独立测量电和参考电。

高频信号：向探头施加高频交流电压（如5MHz），形变电场。当介质覆盖探头时，电场分布发生变化，导致探头与容器壁之间的导纳改变。

导纳分解与干扰

导纳测量：通过矢量分析技术，将总导纳分解为电导分量（G）和电纳分量（B）。

导电介质处理：若介质导电，G分量会显著增加，而B分量变化较小。算法通过设定G/B阈值，识别并排除导电干扰。

粘附介质处理：粘附层形成的虚假导纳变化缓慢且幅度小，系统通过动态滤波（如时间常数调整）区分真实物位突变与粘附干扰。

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